Plazmové nanášanie rozkladom pár
PECVD zariadenie v technologickom inštitúte LAAS vo francúzskom Toulouse PECVD v činnosti Plazmové nanášanie rozkladom pár (angl. plasma-enhanced chemical vapor deposition, skratka PECVD) je proces slúžiaci k naneseniu tenkých filmov rôznych látok v pôvodne plynnom stave (pary) na substrát.
1 vzťah: Monolitický mikrovlnný integrovaný obvod.
Monolitický mikrovlnný integrovaný obvod (MMIO,, MMIC) je typ integrovaného obvodu pracujúceho v pásme mikrovlnných frekvencií (od 300 MHz do 300 GHz).
Nový!!: Plazmové nanášanie rozkladom pár a Monolitický mikrovlnný integrovaný obvod · Pozrieť viac »
Presmerovanie tu:
PECVD, Plazmové nanášanie rozkladom pár (PECVD).